电弧离子镀TiN TiAlN薄膜的制备及高温退火研究

	电弧离子镀TiN TiAlN薄膜的制备及高温退火研究
	陈光华; 杨今漫; 谢二庆; 北京工业大学应用物理系
刊名	兰州大学学报/Lanzhou Daxue Xuebao/Journal of Lanzhou University
	1998-09-22
卷号	34 期号:3 页码:4
关键词	电弧离子镀 TiN薄膜 TiAlN薄膜 X射线衍射气相沉积
ISSN号	04552059
其他题名	Study of high temperature oxidation of the arc-like ion plated TiN and TiAlN films
中文摘要	利用电弧离子镀技术在不锈钢衬底上沉积了ＴｉＮ，ＴｉＡｌＮ薄膜，并对两种样品分别在大气环境下进行了高温退火．退火前后都做了Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）谱及硬度测量，发现退火后ＴｉＡｌＮ薄膜表面出现Ａｌ２Ｏ３层，该层的出现使ＴｉＡｌＮ薄膜的高温特性大大好于ＴｉＮ涂层，在机械工业中将会有广泛的应用前景．
语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://202.201.7.4:8080/handle/262010/101073]
专题	物理科学与技术学院_期刊论文
推荐引用方式 GB/T 7714	陈光华,杨今漫,谢二庆,等. 电弧离子镀TiN TiAlN薄膜的制备及高温退火研究[J]. 兰州大学学报/Lanzhou Daxue Xuebao/Journal of Lanzhou University,1998,34(3):4.
APA	陈光华,杨今漫,谢二庆,&北京工业大学应用物理系.(1998).电弧离子镀TiN TiAlN薄膜的制备及高温退火研究.兰州大学学报/Lanzhou Daxue Xuebao/Journal of Lanzhou University,34(3),4.
MLA	陈光华,et al."电弧离子镀TiN TiAlN薄膜的制备及高温退火研究".兰州大学学报/Lanzhou Daxue Xuebao/Journal of Lanzhou University 34.3(1998):4.