电弧离子镀TiN TiAlN薄膜的制备及高温退火研究 | |
陈光华; 杨今漫; 谢二庆; 北京工业大学应用物理系 | |
刊名 | 兰州大学学报/Lanzhou Daxue Xuebao/Journal of Lanzhou University
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1998-09-22 | |
卷号 | 34期号:3页码:4 |
关键词 | 电弧离子镀 TiN薄膜 TiAlN薄膜 X射线衍射 气相沉积 |
ISSN号 | 04552059 |
其他题名 | Study of high temperature oxidation of the arc-like ion plated TiN and TiAlN films |
中文摘要 | 利用电弧离子镀技术在不锈钢衬底上沉积了TiN,TiAlN薄膜,并对两种样品分别在大气环境下进行了高温退火.退火前后都做了X射线衍射(XRD)谱及硬度测量,发现退火后TiAlN薄膜表面出现Al2O3层,该层的出现使TiAlN薄膜的高温特性大大好于TiN涂层,在机械工业中将会有广泛的应用前景. |
语种 | 中文 |
内容类型 | 期刊论文 |
源URL | [http://202.201.7.4:8080/handle/262010/101073] ![]() |
专题 | 物理科学与技术学院_期刊论文 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 陈光华,杨今漫,谢二庆,等. 电弧离子镀TiN TiAlN薄膜的制备及高温退火研究[J]. 兰州大学学报/Lanzhou Daxue Xuebao/Journal of Lanzhou University,1998,34(3):4. |
APA | 陈光华,杨今漫,谢二庆,&北京工业大学应用物理系.(1998).电弧离子镀TiN TiAlN薄膜的制备及高温退火研究.兰州大学学报/Lanzhou Daxue Xuebao/Journal of Lanzhou University,34(3),4. |
MLA | 陈光华,et al."电弧离子镀TiN TiAlN薄膜的制备及高温退火研究".兰州大学学报/Lanzhou Daxue Xuebao/Journal of Lanzhou University 34.3(1998):4. |
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