Preparation Process of High-Purity Ruthenium Used for Sputtering Target

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	Preparation Process of High-Purity Ruthenium Used for Sputtering Target
	Zhang, DY; Liu, WS
刊名	Xiyou Jinshu Cailiao Yu Gongcheng/Rare Metal Materials and Engineering
	2016-05
卷号	45 期号:5 页码:1353-1356
关键词	high gravity rotating packed bed reactor ruthenium hydrochloric acid solution oxidation distillation high-purity ruthenium
ISSN号	1002-185X
其他题名	用于溅射靶材的高纯钌粉的制备工艺研究
通讯作者	Zhang, DY (reprint author), Tianshui Normal Univ, Coll Chem Engn & Technol, Tianshui 741001, Peoples R China.
中文摘要	采用超重力旋转填料床反应器氧化减压蒸馏装置,从一次钌盐酸吸收液中氧化蒸馏赶锇、提钌。氧化蒸馏出的RuO_4经盐酸吸收还原,制得纯的钌盐酸溶液;经氯化铵结晶沉淀,所得的氯钌酸铵沉淀物在氢气氛围下煅烧还原,制得高纯海绵钌;海绵钌经王水与氢氟酸混合酸煮洗,在氢气氛围下干燥后制得纯钌粉。经辉光放电质谱法——GDMS分析,钌粉纯度达到99.999%以上,可直接用于溅射靶材。该工艺采用物理与化学、湿法与火法相结合的提纯技术,制得用于溅射靶材的高纯钌粉。超重力旋转填料床反应器氧化蒸馏具有可连续化作业、操作时间短、提钌率高、制备高纯含钌盐酸溶液产品质量稳定的特点。
学科主题	Materials Science; Metallurgy & Metallurgical Engineering
语种	中文
WOS记录号	WOS:000377148800048
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.lzu.edu.cn/handle/262010/178460]
专题	化学化工学院_期刊论文
推荐引用方式 GB/T 7714	Zhang, DY,Liu, WS. Preparation Process of High-Purity Ruthenium Used for Sputtering Target[J]. Xiyou Jinshu Cailiao Yu Gongcheng/Rare Metal Materials and Engineering,2016,45(5):1353-1356.
APA	Zhang, DY,&Liu, WS.(2016).Preparation Process of High-Purity Ruthenium Used for Sputtering Target.Xiyou Jinshu Cailiao Yu Gongcheng/Rare Metal Materials and Engineering,45(5),1353-1356.
MLA	Zhang, DY,et al."Preparation Process of High-Purity Ruthenium Used for Sputtering Target".Xiyou Jinshu Cailiao Yu Gongcheng/Rare Metal Materials and Engineering 45.5(2016):1353-1356.