| 噻吩修饰的新型并五苯衍生物的合成及其光谱性能 | |
| 王静; 刘珂 | |
| 刊名 | 合成化学
 |
| 2011-06-20 | |
| 期号 | 3页码:318-320 |
| 关键词 | 并五苯 Suzuki偶联反应 寡聚噻吩 合成 光谱性能 |
| 中文摘要 | 通过在并五苯的6-位和13-位引入寡聚噻吩取代基,成功地合成了三个噻吩修饰的并五苯衍生物(1a～1c),其结构经NMR,IR,MS和元素分析表征,其中1b和1c未见文献报道。并研究了1的甲苯溶液和固体薄膜的UV性能。 |
| 语种 | 中文 |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| 源URL | [http://202.201.7.4:8080/handle/262010/100836]  |
| 专题 | 化学化工学院_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王静,刘珂. 噻吩修饰的新型并五苯衍生物的合成及其光谱性能[J]. 合成化学,2011(3):318-320. |
| APA | 王静,&刘珂.(2011).噻吩修饰的新型并五苯衍生物的合成及其光谱性能.合成化学(3),318-320. |
| MLA | 王静,et al."噻吩修饰的新型并五苯衍生物的合成及其光谱性能".合成化学 .3(2011):318-320. |
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