NO~+BF_4~-催化脱除TBS和THP保护基还原羟基的研究

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	NO~+BF_4~-催化脱除TBS和THP保护基还原羟基的研究
	王建涛; 伍文韬; 徐艳芬; 吴隆民
刊名	科学通报
	2010-08-25
期号	24 页码:2451
关键词	保护基:6423 催化脱除:4388 脱保护:2800 羟基:2446 有机合成:2394 化学氧化法:2175 还原电位:2095 叔丁基:1940 四氢吡喃:1889 氟离子:1860
中文摘要	有机合成中,叔丁基二甲基硅甲(TBS)醚和四氢吡喃(THP)醚常被用以保护羟基,氟离子和酸性水溶液又可以很容易地使其分解而脱保护.近年来,化学氧化法脱除这些保护基
语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://202.201.7.4:8080/handle/262010/100801]
专题	化学化工学院_期刊论文
推荐引用方式 GB/T 7714	王建涛,伍文韬,徐艳芬,等. NO~+BF_4~-催化脱除TBS和THP保护基还原羟基的研究[J]. 科学通报,2010(24):2451.
APA	王建涛,伍文韬,徐艳芬,&吴隆民.(2010).NO~+BF_4~-催化脱除TBS和THP保护基还原羟基的研究.科学通报(24),2451.
MLA	王建涛,et al."NO~+BF_4~-催化脱除TBS和THP保护基还原羟基的研究".科学通报 .24(2010):2451.