碲的电位溶出分析

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	碲的电位溶出分析
	王曙; 张淑云; 潘建刚
刊名	分析化学
	1984-03-31
期号	3 页码:221-223
关键词	富集:7306 电位溶出分析:4245 玻碳电极:2932 共沉淀分离:1942 自动电位滴定仪:1896 硫酸厂:1878 氧化剂:1795 测定下限:1493 记录仪:1397 参比电极:1296
中文摘要	本文研究了碲的电位溶出分析。在0.25MHCl介质中加入Cu(Ⅱ),利用碲与铜生成Cu-Te化合物富集到玻碳电极上,以溴水做氧化剂测定碲,测定下限可达2ppb(富集10分钟)。用砷共沉淀分离碲,测定了烟尘、硫酸厂污泥及粮食中碲的含量。实验部分仪器:由ZD-2型自动电位滴定仪,XWC-100F型记录仪组成。XBD-1型旋转玻碳电极为工作电极,Pt及SCE为辅助及参比电极。富集和测量均在搅拌下进行。
语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://202.201.7.4:8080/handle/262010/98744]
专题	化学化工学院_期刊论文
推荐引用方式 GB/T 7714	王曙,张淑云,潘建刚. 碲的电位溶出分析[J]. 分析化学,1984(3):221-223.
APA	王曙,张淑云,&潘建刚.(1984).碲的电位溶出分析.分析化学(3),221-223.
MLA	王曙,et al."碲的电位溶出分析".分析化学 .3(1984):221-223.