光学高速抛光材料与高分子结构、性能之间的关系 | |
苏致兴 | |
刊名 | 仪器制造
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1979-12-27 | |
期号 | 6页码:1-9 |
关键词 | 抛光模层:5715 抛光材料:5713 环氧树脂:3042 聚四氟乙烯:2361 耐热性:2053 耐磨性:1882 高分子结构:1873 抛光工艺:1769 配方:1651 高速:1649 |
中文摘要 | 本文的目地在于把各种抛光材料(绝大部分是有机高分子材料)从结构、性能上加以阐述,并按照抛光工艺对抛光材料的技术要求,对各种抛光材料加以评价和讨论,供大家在制模工艺中参考。 |
语种 | 中文 |
内容类型 | 期刊论文 |
源URL | [http://202.201.7.4:8080/handle/262010/98555] ![]() |
专题 | 化学化工学院_期刊论文 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 苏致兴. 光学高速抛光材料与高分子结构、性能之间的关系[J]. 仪器制造,1979(6):1-9. |
APA | 苏致兴.(1979).光学高速抛光材料与高分子结构、性能之间的关系.仪器制造(6),1-9. |
MLA | 苏致兴."光学高速抛光材料与高分子结构、性能之间的关系".仪器制造 .6(1979):1-9. |
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