光学高速抛光材料与高分子结构、性能之间的关系

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	光学高速抛光材料与高分子结构、性能之间的关系
	苏致兴
刊名	仪器制造
	1979-12-27
期号	6 页码:1-9
关键词	抛光模层:5715 抛光材料:5713 环氧树脂:3042 聚四氟乙烯:2361 耐热性:2053 耐磨性:1882 高分子结构:1873 抛光工艺:1769 配方:1651 高速:1649
中文摘要	本文的目地在于把各种抛光材料(绝大部分是有机高分子材料)从结构、性能上加以阐述,并按照抛光工艺对抛光材料的技术要求,对各种抛光材料加以评价和讨论,供大家在制模工艺中参考。
语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://202.201.7.4:8080/handle/262010/98555]
专题	化学化工学院_期刊论文
推荐引用方式 GB/T 7714	苏致兴. 光学高速抛光材料与高分子结构、性能之间的关系[J]. 仪器制造,1979(6):1-9.
APA	苏致兴.(1979).光学高速抛光材料与高分子结构、性能之间的关系.仪器制造(6),1-9.
MLA	苏致兴."光学高速抛光材料与高分子结构、性能之间的关系".仪器制造 .6(1979):1-9.