干涉条纹相位变化对平面全息光栅曝光的影响

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	干涉条纹相位变化对平面全息光栅曝光的影响
	宋莹
刊名	激光技术
	2016-05-25
期号	3 页码:339-343
关键词	光栅光栅曝光数值计算条纹相位变化曝光对比度掩模槽形
中文摘要	为更好地评价平面全息光栅曝光系统的性能,了解干涉条纹相位变化对光栅制作的影响,基于曝光量表达式,结合光栅掩模槽形二元模型,采用理论分析和数值计算的方法,分析了条纹相位变化对曝光对比度、光栅掩模槽形和曝光量相位的影响。各种形式的干涉条纹低频漂移均会降低曝光对比度,导致掩模槽形的可控性下降,其影响具有一致性;为保证曝光对比度达到0.95,低频漂移均方根值应控制在0.05个条纹周期以内;小幅值高频振动对光栅曝光的影响可以忽略;低频漂移造成的曝光量相位误差不影响光栅的衍射特性。结果表明,为获取合格的光栅掩模,应控制光刻胶非线性和曝光量的匹配关系,并将干涉条纹低频漂移均方根值控制在1/20条纹周期以内。可将其作为评价全息光栅曝光系统稳定性的重要指标。
语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/57608]
专题	长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式 GB/T 7714	宋莹. 干涉条纹相位变化对平面全息光栅曝光的影响[J]. 激光技术,2016(3):339-343.
APA	宋莹.(2016).干涉条纹相位变化对平面全息光栅曝光的影响.激光技术(3),339-343.
MLA	宋莹."干涉条纹相位变化对平面全息光栅曝光的影响".激光技术 .3(2016):339-343.