题名 | 室温离子液体中Au单晶电极上金属欠电位沉积的现场STM研究; In-Situ STM Study of Metal Underpotential Deposition in Room Temperature Ionic Liquid |
作者 | 傅永春 |
答辩日期 | 2011 ; 2010 |
导师 | 毛秉伟 |
关键词 | 电化学 离子液体 欠电位沉积 前驱体吸附 扫描隧道显微镜 电催化 Electrochemistry Ionic Liquid Underpotential Deposition Precursor Adsorption Scanning Tunnelling Microscopy Electrocatalysis |
英文摘要 | 金属电沉积是电化学的重要分支,在表面科学、材料科学和纳米科学等领域扮演着重要角色。在金属电沉积中,金属欠电位沉积(UnderpotentialDeposition,UPD)是一种重要的表面电化学现象,蕴涵着丰富的表面科学基本问题。电极表面的电子结构和几何结构、离子的共吸附以及溶剂分子的作用等对欠电位沉积的热力学和动力学以及所形成的UPD结构有着深刻的影响。然而,在欠电位沉积的研究中,对大量存在的溶剂分子在表面发生吸附、共吸附,特别是金属离子的溶剂化效应等对欠电位沉积行为的影响远不够深入。室温离子液体作为一种性质独特的新型非水溶剂,为研究和比较介质对金属欠电位沉积的影响提供了极好的环境。 本论...; Metal electrodeposition is one of the important branches in electrochemistry, which plays an important role in surface science, material science and nanotechnology. As a special type of electrodeposition, underpotential deposition (UPD) contains rich information on the fundamental issues of interfacial electrochemistry. UPD is sensitive to processes at the electrified interface, such as the electr...; 学位:理学博士; 院系专业:化学化工学院化学系_物理化学(含化学物理); 学号:B200425027 |
语种 | zh_CN |
出处 | http://210.34.4.13:8080/lunwen/detail.asp?serial=28534 |
内容类型 | 学位论文 |
源URL | [http://dspace.xmu.edu.cn/handle/2288/34196] |
专题 | 化学化工-学位论文 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 傅永春. 室温离子液体中Au单晶电极上金属欠电位沉积的现场STM研究, In-Situ STM Study of Metal Underpotential Deposition in Room Temperature Ionic Liquid[D]. 2011, 2010. |
个性服务 |
查看访问统计 |
相关权益政策 |
暂无数据 |
收藏/分享 |
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。
修改评论