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题名	约束刻蚀剂层技术（CELT）用于Ni 、Cu和Si表面三维微图形复制加工研究; Study on 3-Dimensional Microstructure Replication on Ni, Cu and Si Surface by Confined Etchant Layer Technique
作者	刘柱方
答辩日期	2003 ; 2003
导师	田昭武
关键词	微系统技术 微加工 约束刻蚀剂层技术（CELT） Ni Cu Si Microsystem Microfabricaton Confined Etchant Layer Technique(CELT) Nickel Copper Silicon
英文摘要	微系统技术是近二十年来发展起来的新兴技术领域，微系统技术的出现和应用，将对传统机械概念和现代科学技术产生影响深远的变革，堪称为划时代的技术。微加工技术作为微系统中的核心技术，是目前微系统技术研究中最为活跃的领域。随着微系统技术的发展，对微加工技术提出了更新更高的要求，因此必须建立新型的微加工技术以满足不断发展的微系统技术的需要，而作为一个新型的微加工技术必须满足以下要求：（1）能够复制加工出复杂三维结构；（2）加工精度能达到亚微米至纳米级；（3）可以实现批量复制，而在传统的微加工技术中，还没有一个技术能同时很好地满足这三个要求。 1992年，田昭武院士在国际上首次提出了约束刻蚀剂层技术（Co...; Microsystem is a new research field developed in the past twenty years, with its emergence and promising application, deep influence has been made on the traditional concepts of mechanics and on modern science and technology. Microfabrication, a key technique in microsystems, has attracted a lot of research interest in recent years. However, novel microfabrication techniques are highly required wi...; 学位：理学硕士; 院系专业：化学化工学院化学系_物理化学(含化学物理); 学号：200025038
语种	zh_CN
出处	http://210.34.4.13:8080/lunwen/detail.asp?serial=2332
内容类型	学位论文
源URL	[http://dspace.xmu.edu.cn/handle/2288/34240]
专题	化学化工－学位论文
推荐引用方式 GB/T 7714	刘柱方. 约束刻蚀剂层技术（CELT）用于Ni 、Cu和Si表面三维微图形复制加工研究, Study on 3-Dimensional Microstructure Replication on Ni, Cu and Si Surface by Confined Etchant Layer Technique[D]. 2003, 2003.

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