| 题名 | 约束刻蚀剂层技术用于砷化嫁三维规整细微图形的复制加工; Three-dimensional Microfabrication on GaAs by Usin |
| 作者 | 黄海苟 |
| 答辩日期 | 2001 ; 2001 |
| 导师 | 田昭武 |
| 关键词 | 微系统 约束刻蚀剂层技术 三维微加工 电化学 Microsystem or Microelectromechanical Systems (MEMS) Confined Etchant Layer Technique (CELT) Three-dimensional Microfabrication Electrochemistry |
| 英文摘要 | 微/纳米科学技术作为二十一世纪的关键高新技术之一，将导致人类认识和改造世界能力的重大突破。而具有强烈交叉学科色彩的微系统（或微机电系统，MEMS）可能迅速崛起和蓬勃发展，成为微/纳米科技中的核心之一。为充分发挥微系统的功能和用途，需要制备较为复杂和高性能的微结构，因此必须发展和建立新型的加工技术。适宜于微系统的新型的加工技术应能满足如下三方面的要求：（1）能够加工复制出真正的超微复杂三维微加工图形或器件；（2）可批量生产；（3）达到微/纳米尺寸。 早在1992年，田昭武院士等就提出了约束刻蚀剂层技术（ConfinedEtchantLayerTechnique,简称CELT），是一种具有距离敏...; Micro- and Nanometer science and technology, which will lead to a great breakthrough in understanding and transforming the world is considered to be a key Hi-tech in 21st century. The microsystem or microelectromechanical systems (MEMS), as an interdisciplinary field, will be a core of micro- and nanometer science and technology. In order to exert the potential of MEMS, a new micromachining method...; 学位：理学硕士; 院系专业：化学化工学院化学系_物理化学(含化学物理); 学号：199825021 |
| 语种 | zh_CN |
| 出处 | http://210.34.4.13:8080/lunwen/detail.asp?serial=2228 |
| 内容类型 | 学位论文 |
| 源URL | [http://dspace.xmu.edu.cn/handle/2288/35670]  |
| 专题 | 化学化工－学位论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 黄海苟. 约束刻蚀剂层技术用于砷化嫁三维规整细微图形的复制加工, Three-dimensional Microfabrication on GaAs by Usin[D]. 2001, 2001. |
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