| 题名 | 有序介孔氧化硅薄膜的制备与修饰; Synthesis and Modification of Ordered Mesoporous Silica Films |
| 作者 | 彭迟香 |
| 答辩日期 | 2011 ; 2010 |
| 导师 | 程璇 ; 余煜玺 |
| 关键词 | 有序介孔 氧化硅薄膜 表面修饰 疏水性 Ordered mesoporous Silica films Surface modification Hydrophobicity |
| 英文摘要 | 介孔氧化硅薄膜由于具有规整有序孔道结构、高孔隙率、高比表面积等特点，在催化、低介电、光学薄膜等领域有广泛的应用。薄膜制备过程中，溶胶的组分配比、反应条件、成膜环境以及薄膜的后处理等都会对有序介孔的形成及其结构造成影响，因此，有必要对薄膜的制备参数进行系统的研究并进一步优化。得到的介孔氧化硅薄膜由于表面具有亲水基团，在空气中很容易吸附水分子，从而影响薄膜的结构和性能，这就需要对薄膜进行表面修饰，以达到疏水效果。 本工作采用聚环氧乙烷-聚环氧丙烷-聚环氧乙烷三嵌段共聚物(P123)或十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)为模板剂，以正硅酸四乙酯(TEOS)为硅源，制备了高度有序的介孔氧化硅薄膜，并选择...; Highly ordered mesoporous silica films are widely used in the fields such as catalysis, low dielectric, optical films because of their regular ordered pore structure, high porosity, high surface area, etc. During synthesis process of meosoprous silica films, the component ratio of the sol, reaction conditions, synthesis environment, post-processing of films will affect the formation of mesoporous ...; 学位：工学硕士; 院系专业：材料学院材料科学与工程系_材料学; 学号：20720071150014 |
| 语种 | zh_CN |
| 出处 | http://210.34.4.13:8080/lunwen/detail.asp?serial=28380 |
| 内容类型 | 学位论文 |
| 源URL | [http://dspace.xmu.edu.cn/handle/2288/21833]  |
| 专题 | 材料学院－学位论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 彭迟香. 有序介孔氧化硅薄膜的制备与修饰, Synthesis and Modification of Ordered Mesoporous Silica Films[D]. 2011, 2010. |
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