单畴外延铁电薄膜的相结构与稳定性 | |
周志东 ; 张春祖 ; 蒋泉 | |
刊名 | http://epub.cnki.net/grid2008/brief/detailj.aspx?filename=GTLX201203005&dbname=CJFQ2012
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2012-06-15 | |
关键词 | 金茨堡-朗道方程 铁电相图 尺寸效应 松弛应变 |
英文摘要 | 论文采用动态金茨堡-朗道(DGL)方程研究了薄膜厚度与错配应变对(0 0 1)取向单畴外延PbTiO3(PTO)铁电薄膜相结构与稳定性的影响.结合平面内松弛应变(等效应变)、表面效应与退极化场等机电耦合边界条件,通过数值求解DGL方程获得外延单畴铁电薄膜错配应变-厚度相图和错配应变-温度相图.数值分析结果显示,由于生成的界面位错松弛了薄膜内错配应变,在理论高应变区相图与传统分析结果有较大差别,文中发现在更广的理论错配拉应变区出现稳定的四方相(c相)结构和单斜相(r相)结构.结果也显示,随着薄膜厚度的减小,表面效应与退极化效应会把顺电相扩展到更低温度区域,从而压缩稳定的铁电相存在的温度区域. |
语种 | 中文 |
内容类型 | 期刊论文 |
源URL | [http://dspace.xmu.edu.cn/handle/2288/15839] ![]() |
专题 | 材料学院-已发表论文 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 周志东,张春祖,蒋泉. 单畴外延铁电薄膜的相结构与稳定性[J]. http://epub.cnki.net/grid2008/brief/detailj.aspx?filename=GTLX201203005&dbname=CJFQ2012,2012. |
APA | 周志东,张春祖,&蒋泉.(2012).单畴外延铁电薄膜的相结构与稳定性.http://epub.cnki.net/grid2008/brief/detailj.aspx?filename=GTLX201203005&dbname=CJFQ2012. |
MLA | 周志东,et al."单畴外延铁电薄膜的相结构与稳定性".http://epub.cnki.net/grid2008/brief/detailj.aspx?filename=GTLX201203005&dbname=CJFQ2012 (2012). |
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