连续电解抛光工艺优化前后的钼丝性能比较

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	连续电解抛光工艺优化前后的钼丝性能比较
	严云涛 ; 张飒 ; 程璇 ; 张颖 ; 林强 ; 于洋
刊名	http://epub.cnki.net/grid2008/brief/detailj.aspx?filename=XDZK201203026&dbname=CJFQ2012
	2012
关键词	钼丝连续电解抛光表面平整度性能
英文摘要	通过对比实验对钼丝的连续电解抛光液及工艺参数进行了优化,并研究连续电解抛光工艺优化前后钼丝的相关性能.结果表明,工艺优化后的钼丝表面形成了连续均匀的氧化膜,整体缺陷减少,表面平整度得到较大的改善,同时抗拉强度、显微硬度、耐蚀性、抗氧化性也有所提高,综合性能明显优于传统工艺得到的钼丝性能.
语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://dspace.xmu.edu.cn/handle/2288/15833]
专题	材料学院－已发表论文
推荐引用方式 GB/T 7714	严云涛,张飒,程璇,等. 连续电解抛光工艺优化前后的钼丝性能比较[J]. http://epub.cnki.net/grid2008/brief/detailj.aspx?filename=XDZK201203026&dbname=CJFQ2012,2012.
APA	严云涛,张飒,程璇,张颖,林强,&于洋.(2012).连续电解抛光工艺优化前后的钼丝性能比较.http://epub.cnki.net/grid2008/brief/detailj.aspx?filename=XDZK201203026&dbname=CJFQ2012.
MLA	严云涛,et al."连续电解抛光工艺优化前后的钼丝性能比较".http://epub.cnki.net/grid2008/brief/detailj.aspx?filename=XDZK201203026&dbname=CJFQ2012 (2012).