CORC  > 西北工业大学
基于SOI的硅微谐振式压力传感器芯片制作
马志波 ; 姜澄宇 ; 任森 ; 苑伟政
刊名http://epub.edu.cnki.net/grid2008/brief/detailj.aspx?filename=CGJS201202008&dbname=CJFQTEMP
2012-04-24 ; 2012-04-24
关键词谐振式压力传感器 三层薄膜保护工艺 敏感膜片 MEMS SOI
中文摘要采用SOI硅片,基于MEMS技术,设计并加工了一种新型三明治结构的硅微谐振式压力传感器,根据传感器敏感单元的结构设计,制定了相应的制备工艺步骤,并且针对湿法深刻蚀过程中谐振子的刻蚀保护等问题,提出了一种基于氮化硅、氧化硅和氮化硅三层薄膜的保护工艺,实验表明,在采用三层薄膜保护工艺下进行湿法刻蚀10 h后,谐振子被完全释放,三层薄膜保护工艺对要求采用湿法刻蚀镂空释放可动结构具有较高的实用价值。最后对加工完成的谐振式压力传感器进行了初步的性能测试,结果表明,在标准大气压力下谐振子的固有频率为9.932 kHz,品质因数为34。
语种中文
出版者传感技术学报
内容类型期刊论文
源URL[http://ircloud.calis.edu.cn/hdl/261030/1537]  
专题西北工业大学
推荐引用方式
GB/T 7714
马志波,姜澄宇,任森,等. 基于SOI的硅微谐振式压力传感器芯片制作[J]. http://epub.edu.cnki.net/grid2008/brief/detailj.aspx?filename=CGJS201202008&dbname=CJFQTEMP,2012, 2012.
APA 马志波,姜澄宇,任森,&苑伟政.(2012).基于SOI的硅微谐振式压力传感器芯片制作.http://epub.edu.cnki.net/grid2008/brief/detailj.aspx?filename=CGJS201202008&dbname=CJFQTEMP.
MLA 马志波,et al."基于SOI的硅微谐振式压力传感器芯片制作".http://epub.edu.cnki.net/grid2008/brief/detailj.aspx?filename=CGJS201202008&dbname=CJFQTEMP (2012).
个性服务
查看访问统计
相关权益政策
暂无数据
收藏/分享
所有评论 (0)
暂无评论
 

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。


©版权所有 ©2017 CSpace - Powered by CSpace