高阻值Cd_(0.9)Zn_(0.1)Te晶体的退火处理 | |
李国强 ; 介万奇 ; 谷智 | |
2012-04-24 ; 2012-04-24 | |
会议名称 | 中国北京 2002年中国材料研讨会 |
关键词 | Cd_(0.9)Zn_(0.1)Te 退火 结晶质量 红外透过率 电阻率 |
中文摘要 | 采用Cd_(1-x)Zn_x作退火源,对Bridgman法生长获得的Cd_(0.9)Zn_(0.1)Te晶片进行了退火处理。测试结果表明,退火后,晶片的成分分布更均匀,结晶质量得到提高,红外透过率和电阻率都十分接近本征Cd_(0.9)Zn_(0.1)Te的值。从缺陷和杂质的角度,本文分析了晶片性能优化的原因。 |
会议录 | 冶金工业出版社 ; http://epub.edu.cnki.net/grid2008/brief/detailj.aspx?filename=ZGCZ200210002173&dbname=CPFD2002 |
语种 | 中文 |
内容类型 | 会议论文 |
源URL | [http://ircloud.calis.edu.cn/hdl/261030/878] |
专题 | 西北工业大学 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 李国强,介万奇,谷智. 高阻值Cd_(0.9)Zn_(0.1)Te晶体的退火处理[C]. 见:中国北京 2002年中国材料研讨会. |
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