CORC  > 西北工业大学
碲铟汞晶体的生长及其电学特性
王领航 ; 董阳春 ; 介万奇
刊名http://epub.edu.cnki.net/grid2008/brief/detailj.aspx?filename=BDTX200707012&dbname=CJFQ2007
2012-04-24 ; 2012-04-24
关键词Hg3-3xIn2xTe3 晶体生长 垂直布里奇曼法 光电半导体材料 近红外探测器
中文摘要利用垂直Bridgman法成功生长了Hg3-3xIn2xTe3(MIT)(x=0.5)单晶体,并用XRD,RO-XRD及霍尔测量对晶体的结晶质量及电学性能进行了研究.结果表明,所生长的晶体为单相的高质量单晶体;切割晶面为(311)面,位于θ=23.86°,晶面偏离角Φ=2.9°,取向分散度FWHM=0.3°;晶体的导电类型为n型,电阻率为4.79×102Ω.cm,载流子浓度为2.83×1013cm-3,载流子迁移率为4.6×102cm2/(V.s).晶体的费米能级位于禁带中线以上8meV处,载流子浓度的计算值和实验测量值基本符合.
语种中文
出版者半导体学报
内容类型期刊论文
源URL[http://ircloud.calis.edu.cn/hdl/261030/194]  
专题西北工业大学
推荐引用方式
GB/T 7714
王领航,董阳春,介万奇. 碲铟汞晶体的生长及其电学特性[J]. http://epub.edu.cnki.net/grid2008/brief/detailj.aspx?filename=BDTX200707012&dbname=CJFQ2007,2012, 2012.
APA 王领航,董阳春,&介万奇.(2012).碲铟汞晶体的生长及其电学特性.http://epub.edu.cnki.net/grid2008/brief/detailj.aspx?filename=BDTX200707012&dbname=CJFQ2007.
MLA 王领航,et al."碲铟汞晶体的生长及其电学特性".http://epub.edu.cnki.net/grid2008/brief/detailj.aspx?filename=BDTX200707012&dbname=CJFQ2007 (2012).
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