ZnSe薄膜的化学反应辅助热壁外延法生长及特性研究 | |
白大伟 ; 李焕勇 ; 介万奇 ; 李培森 ; 赵海涛 | |
刊名 | http://epub.edu.cnki.net/grid2008/brief/detailj.aspx?filename=RGJT200701012&dbname=CJFQ2007
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2012-04-24 ; 2012-04-24 | |
关键词 | Ⅱ-Ⅵ族化合物 ZnSe薄膜 化学促进热壁外延法 |
中文摘要 | 本文通过将新型化学气相反应促进剂Zn(NH4)3Cl5引入到热壁外延系统中,以二元素单质Zn和Se为原料,直接在Si(111)衬底上生长了高质量的ZnSe晶体薄膜,薄膜成分接近理想化学计量比。研究了主要工艺参数对薄膜生长形貌和性能的影响。采用SEM、AFM、EDS和PL谱技术研究了生长的ZnSe薄膜的形貌、成分和发光特性。研究结果表明,热壁温度和生长时间是影响ZnSe薄膜形貌的主要因素;气相反应促进剂在薄膜生长和调节成分方面扮演了关键角色,Zn(NH4)3Cl5的存在使得Zn(g)和Se2(g)合成ZnSe晶体的反应转变为气固非一致反应,从而更容易获得近乎理想化学计量比的ZnSe薄膜。ZnSe薄膜在氦镉激光激发下,室温下PL谱由近带边发射和(VZn-ClSe)组合的SA发光组成,而在飞秒激光激发下,仅在481nm处显示出强烈的双光子发射峰。 |
语种 | 中文 |
出版者 | 人工晶体学报 |
内容类型 | 期刊论文 |
源URL | [http://ircloud.calis.edu.cn/hdl/261030/187] ![]() |
专题 | 西北工业大学 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 白大伟,李焕勇,介万奇,等. ZnSe薄膜的化学反应辅助热壁外延法生长及特性研究[J]. http://epub.edu.cnki.net/grid2008/brief/detailj.aspx?filename=RGJT200701012&dbname=CJFQ2007,2012, 2012. |
APA | 白大伟,李焕勇,介万奇,李培森,&赵海涛.(2012).ZnSe薄膜的化学反应辅助热壁外延法生长及特性研究.http://epub.edu.cnki.net/grid2008/brief/detailj.aspx?filename=RGJT200701012&dbname=CJFQ2007. |
MLA | 白大伟,et al."ZnSe薄膜的化学反应辅助热壁外延法生长及特性研究".http://epub.edu.cnki.net/grid2008/brief/detailj.aspx?filename=RGJT200701012&dbname=CJFQ2007 (2012). |
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