| 不同溶剂对KTP晶体生长及其性能的影响 | |
| 王希敏 ; 陈立舫 ; 张克从 | |
| 2012-04-24 ; 2012-04-24 | |
| 关键词 | 非线性光学晶体 熔盐法 熔剂 生长习性 磷酸氧钛钾 |
| 中文摘要 | 本文研究了Ｋ＿６（Ｋ＿６Ｐ＿４Ｏ＿（１３））和Ｋ＿６中加入不同百分比ＷＯ＿３（１０ｍｏｌ％、２０ｍｏｌ％、３０ｍｏｌ％、４０ｍｏｌ％）的溶剂对ＫＴＰ（ＫＴｉＯＰＯ＿４）晶体生长及其性能的影响，测定了ＫＴＰ在不同溶剂中的溶解度，研究了ＫＴＰ晶体在这些不同溶液体系中的生长习性。运用原子发射光谱测定了不同溶液体系中生长的ＫＴＰ晶体中钨（Ｗ）的含量，并测定了晶体的透过率，和对１．０６４μｍ激光的倍频转换效率及其损伤阈值。 |
| 原文出处 | http://guest.cnki.net/grid2008/brief/detailj.aspx?filename=RGJT402.009&dbname=CJFQ1994 |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| 源URL | [http://hdl.handle.net/123456789/19504]  |
| 专题 | 北京工业大学 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王希敏,陈立舫,张克从. 不同溶剂对KTP晶体生长及其性能的影响[J],2012, 2012. |
| APA | 王希敏,陈立舫,&张克从.(2012).不同溶剂对KTP晶体生长及其性能的影响.. |
| MLA | 王希敏,et al."不同溶剂对KTP晶体生长及其性能的影响".(2012). |
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