掺质TGS晶体生长机制的探索研究 | |
王希敏 ; 张春林 ; 张克从 ; 王民 | |
2012-04-24 ; 2012-04-24 | |
关键词 | 掺质,TGS晶体,生长机制,溶液晶体生长,生长速率 |
中文摘要 | 本文采用水溶液降温法生长了6种掺质TGS晶体,掺质分别为有机小分子化合物:甲酸、乙酸、丙酸、丙醇、1,2-丙二醇和硫脲。研究了此6种掺质TGS晶体的生长形态,X-射线粉末衍射和红外光谱以及主要的热释电性能参数等。最后从氢键形成的观点出发,探索研究了掺质TGS晶体的生长机制。 |
原文出处 | http://guest.cnki.net/grid2008/brief/detailj.aspx?filename=RGJT504.003&dbname=CJFQ1995 |
内容类型 | 期刊论文 |
源URL | [http://hdl.handle.net/123456789/19472] ![]() |
专题 | 北京工业大学 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 王希敏,张春林,张克从,等. 掺质TGS晶体生长机制的探索研究[J],2012, 2012. |
APA | 王希敏,张春林,张克从,&王民.(2012).掺质TGS晶体生长机制的探索研究.. |
MLA | 王希敏,et al."掺质TGS晶体生长机制的探索研究".(2012). |
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