| 光掩膜铬版透明缺陷的激光辅助微区沉积铬膜修复技术研究 | |
| 陈继民 ; 阳建华 | |
| 2012-04-13 ; 2012-04-13 | |
| 关键词 | 掩膜版:5681,修补技术:4434,激光辅助:3892,大规模集成电路:2525,技术研究:2331,光刻图形:2213,铬版:2062,激光应用:2010,缺陷修补:2006,基本工具:1966 |
| 中文摘要 | 光掩膜版是光刻工艺过程的基本工具,其质量的优劣直接影响光刻图形的好坏。随着微电子技术、激光应用技术发展的日新月异,一些先进国家不断加强光掩膜版缺陷修补技术尤其是铬掩膜版透明缺陷的激光修补技术的研究,而国内光掩膜版缺陷修补技术的研究还不多,开发铬掩膜缺陷修补尤其是透明缺陷的激光修补技术,是提高国内光掩膜版生产技术和质量的迫切需要,同时对我国先进大规模集成电路制造业持续、快速向前发展具有重要战略意义。 |
| 会议网址 | http://guest.cnki.net/grid2008/brief/detailj.aspx?filename=ZGGY200609001946&dbname=CPFD2006 |
| 会议录出版者 | 中国广东广州 |
| 内容类型 | 会议论文 |
| 源URL | [http://hdl.handle.net/123456789/17084]  |
| 专题 | 北京工业大学 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 陈继民,阳建华. 光掩膜铬版透明缺陷的激光辅助微区沉积铬膜修复技术研究[C]. 见:.http://guest.cnki.net/grid2008/brief/detailj.aspx?filename=ZGGY200609001946&dbname=CPFD2006. |
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