CORC  > 北京工业大学
激光法合成高介电系数陶瓷Ta_2O_5-TiO_2的TEM研究
刘显强 ; 韩晓东 ; 张泽 ; 季凌飞 ; 蒋毅坚
2012-04-13 ; 2012-04-13
关键词激光法 高介电系数 陶瓷
中文摘要半导体工业致力于在单位面积/体积上铺满更多的结构以期得到更高密度、更快运算速度的光电子元器件,而高介电系数物质可满足上述目的。Ta2O5系氧化物是重要的高介电系数物质候选材料之一。本研究用电子显微学的方法研究了激光法合成的高介电系数陶瓷Ta2O5-TiO2晶体点阵结构:a=0.391 nm,b=0.384 nm,c=1.863 nm,α-83.8°,β=95.9°,γ=88.5°。这种结构沿[110]方向在(110)面调制,调制周期为:2.48 nm。本研究认为:这种调制结构正是导致Ta2O5-TiO2陶瓷介电系数大幅度提高的原因。
会议网址http://guest.cnki.net/grid2008/brief/detailj.aspx?filename=ZGCZ200411002010&dbname=CPFD2004
会议录出版者中国北京
内容类型会议论文
源URL[http://hdl.handle.net/123456789/16760]  
专题北京工业大学
推荐引用方式
GB/T 7714
刘显强,韩晓东,张泽,等. 激光法合成高介电系数陶瓷Ta_2O_5-TiO_2的TEM研究[C]. 见:.http://guest.cnki.net/grid2008/brief/detailj.aspx?filename=ZGCZ200411002010&dbname=CPFD2004.
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