SiO_2薄膜折射率的准确拟合分析 | |
王胭脂 ; 张伟丽 ; 范正修 ; 黄建兵 ; 晋云霞 ; 姚建可 ; 邵建达 | |
刊名 | 中国激光 |
2008 | |
卷号 | 35期号:5页码:760 |
关键词 | 词薄膜
SiO2折射率
包络法
准确拟合
Accurately fitting
Envelop method
Optical-
Refractive index of SiO |
ISSN号 | 0258-7025 |
其他题名 | Analysis for accurately fitting the refractive index of SiO |
中文摘要 | 精确的光学常数对于设计和制备高品质的光学薄膜非常重要,尤其是那些光学性能对折射率变化敏感的薄膜。SiO_2是一种常用的低折射率材料,因与常用基底折射率相近使其准确拟合有一定难度。实验通过离子束溅射制备了SiO_2单层膜。考虑测量时的误差和基底折射率的影响,采用透射率包络和反射率包络得到了SiO_2的折射率,并用所得折射率进行反演来对这两种途径在实际测量拟合过程中的准确性进行比对。分析表明,剩余反射率在实际的测量过程中误差更小,直接用测量镀膜前后基片的剩余反射率值可以更简便更准确地得到SiO_2的折射率,能达到10~(-2)的精度。; It is very important to obtain the accurate optical constants of thin films for the design and the manufacture of high-quality optical coatings, especially for those optical characteristics very sensitive to the variation of refractive index. SiO |
学科主题 | 光学薄膜 |
收录类别 | EI |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2009-09-22 |
内容类型 | 期刊论文 |
源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/4722] |
专题 | 上海光学精密机械研究所_光学薄膜技术研究与发展中心 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 王胭脂,张伟丽,范正修,等. SiO_2薄膜折射率的准确拟合分析[J]. 中国激光,2008,35(5):760, 763. |
APA | 王胭脂.,张伟丽.,范正修.,黄建兵.,晋云霞.,...&邵建达.(2008).SiO_2薄膜折射率的准确拟合分析.中国激光,35(5),760. |
MLA | 王胭脂,et al."SiO_2薄膜折射率的准确拟合分析".中国激光 35.5(2008):760. |
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