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空心阴极气流溅射法快速沉积具有高活性光催化作用的TiO_2薄膜(上)
范崇治 ; Yoshiyuki Kubo ; Yoshinori Iwabuchi ; Masato Yoshikawa ; Yoshiyuki Kubo ; Yoshinori Iwabuchi ; Masato Yoshikawa
2016-03-30 ; 2016-03-30
关键词空心阴极气流溅射 沉积 光催化 TiO2 Yunnan Lignite FTIR peak fitting huminite reflectance TB383.2
其他题名High rate deposition of photocatalytic TiO_2 films with high activity by hollow cathode gas-flow sputtering method
中文摘要光催化剂TiO2薄膜是用两个平行Ti靶的空心阴极气流溅射方法沉积而成,氩气和氧气流量分别是3000 sccm和0~50 sccm,在沉积过程中总气压维持在45 Pa。在氧气流量为30 sccm时,TiO2膜最大沉积率为162 nm/min,之后在空气中300℃,1 h进行退火工艺,用来作光催化分解乙醛(CH3CHO),和一般反应溅射相比,后退火膜显示出非常高的光催化作用。
语种中文 ; 中文
内容类型期刊论文
源URL[http://ir.lib.tsinghua.edu.cn/ir/item.do?handle=123456789/142220]  
专题清华大学
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GB/T 7714
范崇治,Yoshiyuki Kubo,Yoshinori Iwabuchi,等. 空心阴极气流溅射法快速沉积具有高活性光催化作用的TiO_2薄膜(上)[J],2016, 2016.
APA 范崇治.,Yoshiyuki Kubo.,Yoshinori Iwabuchi.,Masato Yoshikawa.,Yoshiyuki Kubo.,...&Masato Yoshikawa.(2016).空心阴极气流溅射法快速沉积具有高活性光催化作用的TiO_2薄膜(上)..
MLA 范崇治,et al."空心阴极气流溅射法快速沉积具有高活性光催化作用的TiO_2薄膜(上)".(2016).
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