| AFM原位数字双曝光微纳散斑变形检测技术研究 | |
| 李喜德 ; 杨燕 | |
| 2010-07-15 ; 2010-07-15 | |
| 会议名称 | 中国力学学会学术大会'2005论文摘要集（上） ; 中国力学学会学术大会'2005 ; 中国北京 ; CNKI ; 中国力学学会、北京工业大学 |
| 关键词 | O348.1 |
| 中文摘要 | <正> 双曝光散斑照相术,或称单光束散斑干涉是目前光学无损检测技术中重要的检测技术,已被广泛地应用于理论研究和工程应用等方面。在以往的双曝光散斑检测技术中,变形场的检测灵敏度在激光散斑检测时由成像系统F数、放大倍数和照明光波长确定,而在白光散斑检测中则受限于成像系统的空间分辨本领。对于通常的散斑检测,无论是激光散斑还是白光散斑其位移检测灵敏度在微; 国家自然科学基金(10372049、10072031、10232030); 国家重点基础研究发展计划(2004CB619304); 清华大学强度开放基金资助项目 |
| 语种 | 中文 ; 中文 |
| 内容类型 | 会议论文 |
| 源URL | [http://hdl.handle.net/123456789/67163]  |
| 专题 | 清华大学 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 李喜德,杨燕. AFM原位数字双曝光微纳散斑变形检测技术研究[C]. 见:中国力学学会学术大会'2005论文摘要集（上）, 中国力学学会学术大会'2005, 中国北京, CNKI, 中国力学学会、北京工业大学. |
| 个性服务 |
| 查看访问统计 |
| 相关权益政策 |
| 暂无数据 |
| 收藏/分享 |
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。
修改评论