| Kr、Xe高压气体电离室时间特性研究 | |
| 谈春明 ; 邬海峰 ; 卿上玉 ; 王立强 ; TAN Chun-ming ; WU Hai-feng ; QING Shang-yu ; WANG Li-qiang | |
| 2010-07-15 ; 2010-07-15 | |
| 会议名称 | 第四届北京核学会核应用技术学术交流会论文集 ; 第四届北京核学会核应用技术学术交流会 ; 中国北京 ; CNKI ; 北京核学会 |
| 关键词 | 充气电离室 时间响应 氪气 氙气 gas-filled ionization chamber time response krypton xenon TL811 |
| 其他题名 | Study on Time Response Character for High Pressure Gas lonization Chamber of Krypton and Xenon |
| 中文摘要 | 对充氪、氙气体的高压电离室的时间响应特性进行理论分析和推导,分别对这2种气体及其混合气体电离室在射线入射后的脉冲上升时间进行测量。测量结果与理论计算值吻合。由此验证了此类电离室响应时间可达到10 ms以下,满足成像要求。; The time response character for Kr and Xe high pressure gas ionization chamber is analyzed and deduced. Compared with the measure data of pulse rising time for three gas-filled ionization chambers, the calculated and experimental results are equal to each other. The rising time less than 10 ms for this kind of ionization chamber can be achieved, so this ionization chamber is able to meet the requirement for imaging detection. |
| 会议录出版者 | 原子能出版社 |
| 语种 | 中文 ; 中文 |
| 内容类型 | 会议论文 |
| 源URL | [http://hdl.handle.net/123456789/66283]  |
| 专题 | 清华大学 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 谈春明,邬海峰,卿上玉,等. Kr、Xe高压气体电离室时间特性研究[C]. 见:第四届北京核学会核应用技术学术交流会论文集, 第四届北京核学会核应用技术学术交流会, 中国北京, CNKI, 北京核学会. |
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