平面行星夹具均匀性修正挡板设计方法研究

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	平面行星夹具均匀性修正挡板设计方法研究; Improved design of uniformity mask for flat planetary fixture
	方明 ; 郑伟军 ; 吴明 ; 范瑞瑛 ; 易葵 ; 范正修
刊名	真空科学与技术学报
	2006
卷号	26 期号:4 页码:286
关键词	光学薄膜平面行星夹具修正挡板设计停留概率修正法
其他题名	Improved design of uniformity mask for flat planetary fixture
中文摘要	众多光学系统对其关键环节大尺寸多层光学薄膜提出了越来越复杂的光谱要求，相应地对各个单层膜的厚度容差要求越来越严格。在整个基底表面，每一层都需要沉积得相当均匀。因为，任何单层的非均匀性将增加最终的膜厚误差。随着平面行星夹具广泛地应用于大尺寸光学薄膜制备，必须实现对行星夹具的均匀性有效控制。本文建立了平面行星夹具薄膜沉积无量纲模型，通过对夹具上各点的运动轨迹分析，提出了停留概率修正法，获得的理论均匀性与实验结果吻合。用此法设计出单片修正挡板将夹具Ф560mm范围内的不均匀性从4％改进到6‰。
学科主题	光学薄膜
分类号	TH74
收录类别	ei
语种	中文
公开日期	2009-09-22
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/4330]
专题	上海光学精密机械研究所_光学薄膜技术研究与发展中心
推荐引用方式 GB/T 7714	方明,郑伟军,吴明,等. 平面行星夹具均匀性修正挡板设计方法研究, Improved design of uniformity mask for flat planetary fixture[J]. 真空科学与技术学报,2006,26(4):286, 289.
APA	方明,郑伟军,吴明,范瑞瑛,易葵,&范正修.(2006).平面行星夹具均匀性修正挡板设计方法研究.真空科学与技术学报,26(4),286.
MLA	方明,et al."平面行星夹具均匀性修正挡板设计方法研究".真空科学与技术学报 26.4(2006):286.