CORC  > 清华大学
工艺条件对Zn_(0.88)Ni_(0.02)Li_(0.10)O薄膜取向、形貌和磁性的影响
李剑 ; 刘珊 ; 潘伟 ; Li Jian ; Liu Shan ; Pan Wei
2010-06-10 ; 2010-06-10
关键词ZnO 工艺条件 取向 形貌 磁性 ZnO processing parameters preferred orientation microstructure magnetic properties TB383.2
其他题名Influence of Processing Parameters on the Orientation and Microstructure of Zn_(0.88)Ni_(0.02)Li_(0.10)O Film
中文摘要采用旋转涂覆法在普通玻璃上制备了Zn0.88Ni0.02Li0.10O薄膜,以X射线和扫描电镜作为表征手段,讨论了不同工艺参数对该薄膜取向和形貌的影响。结果表明:热处理温度和旋涂速度较高时取向增强,形貌较好。VSM磁性测量表明:在玻璃基底和硅基底旋涂的薄膜都没有出现明显的磁滞现象。; Zn0.88Ni0.02Li0.10O films were fabricated on glass by spin-coating method.The influence of processing parameters on the orientation and microstructure were studied using XRD and SEM.The higher spin speed and temperature of heat treatment,the better quality of the film.Magnetic hysteresis measured by VSM show that the films coated on glass and silicon is paramagnetic at room temperature.
语种中文 ; 中文
内容类型期刊论文
源URL[http://hdl.handle.net/123456789/61344]  
专题清华大学
推荐引用方式
GB/T 7714
李剑,刘珊,潘伟,等. 工艺条件对Zn_(0.88)Ni_(0.02)Li_(0.10)O薄膜取向、形貌和磁性的影响[J],2010, 2010.
APA 李剑,刘珊,潘伟,Li Jian,Liu Shan,&Pan Wei.(2010).工艺条件对Zn_(0.88)Ni_(0.02)Li_(0.10)O薄膜取向、形貌和磁性的影响..
MLA 李剑,et al."工艺条件对Zn_(0.88)Ni_(0.02)Li_(0.10)O薄膜取向、形貌和磁性的影响".(2010).
个性服务
查看访问统计
相关权益政策
暂无数据
收藏/分享
所有评论 (0)
暂无评论
 

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。


©版权所有 ©2017 CSpace - Powered by CSpace