1053，527，351nm倍频分离膜的制备与性能研究

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	1053，527，351nm倍频分离膜的制备与性能研究
	尚光强 ; 占美琼 ; 贺洪波 ; 张伟丽 ; 邵建达 ; 范正修
刊名	强激光与粒子束
	2006
卷号	18 期号:4 页码:580
关键词	三倍频分离膜弱吸收激光损伤阈值电子束蒸发
ISSN号	1001-4322
其他题名	Fabrication and properties of third harmonic beam splitter
中文摘要	用电子束蒸发及光电极值监控技术在石英基底上沉积了三倍频分离膜，将部分样品置空气中于250℃温度下进行3h热退火处理。然后用Lambda900分光光度计测量了样品的光谱性能；用表面热透镜技术测量了样品的弱吸收值；用调Q脉冲激光装置测试了样品分别在355nm和1064nm的抗激光损伤阈值。实验结果发现，样品的实验光谱性能良好。退火前后其光谱性能几乎没有发生温漂，说明薄膜的温度稳定性好；同时弱吸收平均值从退火前的1.07×10^-4下降到退火后的6．2×10^-5，从而使对基频的抗激光损伤阈值提高，从14．6J
学科主题	光学薄膜
分类号	O484
收录类别	ei
语种	中文
公开日期	2009-09-22
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/4272]
专题	上海光学精密机械研究所_光学薄膜技术研究与发展中心
推荐引用方式 GB/T 7714	尚光强,占美琼,贺洪波,等. 1053，527，351nm倍频分离膜的制备与性能研究[J]. 强激光与粒子束,2006,18(4):580, 582.
APA	尚光强,占美琼,贺洪波,张伟丽,邵建达,&范正修.(2006).1053，527，351nm倍频分离膜的制备与性能研究.强激光与粒子束,18(4),580.
MLA	尚光强,et al."1053，527，351nm倍频分离膜的制备与性能研究".强激光与粒子束 18.4(2006):580.