| 离子溅射用高频PWM电源及其控制系统的设计 | |
| 李清源 ; 李旭春 ; 甘小杰 ; LI Qing-yuan ; LI Xu-chun ; GAN Xiao-jie | |
| 2010-06-09 ; 2010-06-09 | |
| 关键词 | 离子溅射技术 80C196KC单片机 移相控制全桥零电压PWM变换器 ion sputtering deposition 80C196KC single chip processor full-bridge phase-shifted zero-voltage switching PWM converter(ZVS-PWM) TB43 |
| 其他题名 | PWM high-frequency power supply for ion sputtering and its design of control system |
| 中文摘要 | 介绍了一种用于真空镀膜的等离子溅射高频PWM电源,并对其硬件电路包括主电路和控制电路的设计、软件程序开发及电源设计中的系统抗干扰等问题进行了阐述。; Introduces a high-frequency PWM power supply used for vacuum ion sputtering film deposition. The design of its hardware circuit including main circuit and control circuit, development of software and solution to the problem of interference in the system are all presented. |
| 语种 | 中文 ; 中文 |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| 源URL | [http://hdl.handle.net/123456789/57566]  |
| 专题 | 清华大学 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 李清源,李旭春,甘小杰,等. 离子溅射用高频PWM电源及其控制系统的设计[J],2010, 2010. |
| APA | 李清源,李旭春,甘小杰,LI Qing-yuan,LI Xu-chun,&GAN Xiao-jie.(2010).离子溅射用高频PWM电源及其控制系统的设计.. |
| MLA | 李清源,et al."离子溅射用高频PWM电源及其控制系统的设计".(2010). |
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