等离子体活性烧结纳米碳化硅涂层的实验研究

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	等离子体活性烧结纳米碳化硅涂层的实验研究
	黄河激; 付志强; 潘文霞; 吴承康
	2011-01-12
会议名称	第三届高超声速科技学术会议
会议日期	2010-10-26~2010-10-28
通讯作者邮箱	huang@imech.ac.cn
会议地点	无锡
关键词	减压等离子体活性烧结，碳化硅涂层，高速沉积
通讯作者	黄河激
中文摘要	利用减压等离子体活性烧结制备了碳化硅涂层。研究了不同等离子体气流流量、真空室压力、电源功率、基板距离等工艺参数组合对涂层质量的影响规律。通过正交实验确定了优化工艺参数组合，在Φ50 mm以及50×50 mm的较大石墨基板上获得了厚度和成分均匀，结合良好的SiC涂层。沉积速率高达20 μm/min。利用小型电弧等离子体风洞对制备的涂层进行了烧蚀实验，结果表明所制备的涂层在有氧高温高速气流环境下无剥落，可有效保护基体石墨。
收录类别	其他
合作状况	国内
会议录	第三届高超声速科技学术会议.无锡.2010-10-26~2010-10-28.
学科主题	电磁流体力学和等离子体动力学
语种	中文
内容类型	会议论文
源URL	[http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/43296]
专题	力学研究所_等离子体与燃烧中心(2009-2011)
推荐引用方式 GB/T 7714	黄河激,付志强,潘文霞,等. 等离子体活性烧结纳米碳化硅涂层的实验研究[C]. 见:第三届高超声速科技学术会议. 无锡. 2010-10-26~2010-10-28.