| IC制造中的ARMA模型分析与动态工艺控制 | |
| 黄伟 ; 窦维治 ; 刘道广 ; 严利人 ; HUANG Wei ; DOU Weizhi ; LIU Daoguang ; YAN Liren | |
| 2010-05-12 ; 2010-05-12 | |
| 关键词 | 半导体工艺 成品率 动态工艺控制 ARMA模型 时间序列预测 Semiconductor process Yield Dynamic process control ARMA model Time series forecasting TN405 |
| 其他题名 | ARMA Modeling and Dynamic Process Control in IC Manufacturing |
| 中文摘要 | 提出了动态工艺条件控制的概念,即通过引入自适应算法ARMA,可对集成电路制造工艺效果进行预测,并根据预测结果,对工艺条件加以实时的调整控制,达到改善成品率的目的。采用动态工艺条件控制,打破了几十年来IC制造的固定模式,是IC制造领域具有重大创新性的提法。; The concept of dynamic process control was proposed,in which ARMA,one of self-adapting time series arithmetics,was used to analyze and forecast the result of an undergoing process step.Depending on the forecasted data,process parameters can be changed accordingly to improve the process batch-to-batch uniformity without any further cost on IC machines.The result also demonstrated that this "soft" method was one of the advanced process control ways. |
| 语种 | 中文 ; 中文 |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| 源URL | [http://hdl.handle.net/123456789/28564]  |
| 专题 | 清华大学 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 黄伟,窦维治,刘道广,等. IC制造中的ARMA模型分析与动态工艺控制[J],2010, 2010. |
| APA | 黄伟.,窦维治.,刘道广.,严利人.,HUANG Wei.,...&YAN Liren.(2010).IC制造中的ARMA模型分析与动态工艺控制.. |
| MLA | 黄伟,et al."IC制造中的ARMA模型分析与动态工艺控制".(2010). |
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