一种类金刚石薄膜的磁靴增强磁控溅射镀膜装置
张斌; 张俊彦; 高凯雄; 强力
2016-04-13
专利国别中国
专利号201520837488.3
专利类型实用新型
权利人中国科学院兰州化学物理研究所
中文摘要

本实用新型属于物理气相沉积领域,公开了一种类金刚石薄膜的磁靴增强磁控溅射镀膜装置,该装置包括磁控溅射靶,磁控溅射靶前设有磁靴,其中磁靴由一对磁场相反的电磁铁组成,磁靴产生的磁场平行于磁控溅射靶的靶面。本实用新型磁靴增强磁控溅射镀膜装置离化率可以由原来的10%提高到60%。

学科主题材料科学与物理化学
公开日期2016-04-13
申请日期2015-10-27
语种中文
专利申请号CN205152321U
专利代理方晓佳
内容类型专利
源URL[http://210.77.64.217/handle/362003/21667]  
专题兰州化学物理研究所_先进润滑与防护材料研究发展中心
兰州化学物理研究所_固体润滑国家重点实验室
作者单位中国科学院兰州化学物理研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
张斌,张俊彦,高凯雄,等. 一种类金刚石薄膜的磁靴增强磁控溅射镀膜装置. 201520837488.3. 2016-04-13.
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