一种类金刚石薄膜的磁靴增强磁控溅射镀膜装置 | |
张斌; 张俊彦; 高凯雄; 强力 | |
2016-04-13 | |
专利国别 | 中国 |
专利号 | 201520837488.3 |
专利类型 | 实用新型 |
权利人 | 中国科学院兰州化学物理研究所 |
中文摘要 | 本实用新型属于物理气相沉积领域,公开了一种类金刚石薄膜的磁靴增强磁控溅射镀膜装置,该装置包括磁控溅射靶,磁控溅射靶前设有磁靴,其中磁靴由一对磁场相反的电磁铁组成,磁靴产生的磁场平行于磁控溅射靶的靶面。本实用新型磁靴增强磁控溅射镀膜装置离化率可以由原来的10%提高到60%。 |
学科主题 | 材料科学与物理化学 |
公开日期 | 2016-04-13 |
申请日期 | 2015-10-27 |
语种 | 中文 |
专利申请号 | CN205152321U |
专利代理 | 方晓佳 |
内容类型 | 专利 |
源URL | [http://210.77.64.217/handle/362003/21667] |
专题 | 兰州化学物理研究所_先进润滑与防护材料研究发展中心 兰州化学物理研究所_固体润滑国家重点实验室 |
作者单位 | 中国科学院兰州化学物理研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 张斌,张俊彦,高凯雄,等. 一种类金刚石薄膜的磁靴增强磁控溅射镀膜装置. 201520837488.3. 2016-04-13. |
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