| 透明导电薄膜及其制备方法;磁控溅射装置 | |
| 吕明昌; 宋秋明; 杨春雷; 顾光一; 马续航; 冯叶; 肖旭东 | |
| 2014-04-28 | |
| 专利国别 | 中国 |
| 专利号 | 201410178755.0 |
| 专利类型 | 发明 |
| 权利人 | 深圳先进技术研究院 ; 香港中文大学 |
| 授权日期 | 2016-09-07 |
| 内容类型 | 专利 |
| 源URL | [http://ir.siat.ac.cn:8080/handle/172644/9493]  |
| 专题 | 深圳先进技术研究院_先进院专利 |
| 作者单位 | 2014-04-28 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 吕明昌,宋秋明,杨春雷,等. 透明导电薄膜及其制备方法;磁控溅射装置. 201410178755.0. 2014-04-28. |
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