莠去津分子印迹聚合物的合成及其吸附性能

	莠去津分子印迹聚合物的合成及其吸附性能
	霍佳平; 司士辉; 王颜红; 张红; 王世成; 林桂凤
刊名	合成化学
	2010
期号	2 页码:159-163
关键词	分子印迹聚合物莠去津模板分子吸附性能合成
中文摘要	以莠去津(1)为模板分子,甲基丙烯酸(MAA)为功能单体,乙二醇二甲基丙烯酸酯(EDMA)为交联剂,在偶氮二异丁腈(AIBN)的引发下,于65℃聚合17 h合成了对1有特异识别性能的分子印迹聚合物(2)。用紫外分光光度法探索了1与MAA的最佳比例,研究了2的吸附性能力,并利用高效液相色谱法对2的选择性进行了考察。用Scatchard法分析表明,2通过氢键作用力结合,存在两种结合位点,对1的吸附存在两种形态,最大表观吸附量(Qmax,1)为130.9 nmol.g-1,平衡离解常数(Kd,1)为30.8 nmol.L-1,Qmax,2为540.5 nmol.g-1,Kd,2为450.5 nmol...
内容类型	期刊论文
源URL	[http://210.72.129.5/handle/321005/78295]
专题	沈阳应用生态研究所_沈阳应用生态研究所_期刊论文
推荐引用方式 GB/T 7714	霍佳平,司士辉,王颜红,等. 莠去津分子印迹聚合物的合成及其吸附性能[J]. 合成化学,2010(2):159-163.
APA	霍佳平,司士辉,王颜红,张红,王世成,&林桂凤.(2010).莠去津分子印迹聚合物的合成及其吸附性能.合成化学(2),159-163.
MLA	霍佳平,et al."莠去津分子印迹聚合物的合成及其吸附性能".合成化学 .2(2010):159-163.