基于动态适应度函数的光刻机光源掩模优化方法

	基于动态适应度函数的光刻机光源掩模优化方法
	杨朝兴 ; 李思坤 ; 王向朝
	2014
中文摘要	光源与掩模优化(SMO)技术同时优化光源照明模式和掩模图形,是增大工艺窗口、降低工艺因子的关键光刻机分辨率增强技术之一。基于遗传算法的SMO不需要掌握光刻流程的先验知识,可以实现对光源照明模式和掩模图形的自动优化[1]。为了提高优化结果的工艺鲁棒性,降低对焦深、曝光剂量等工艺条件波动的敏感度,通常使用不同工艺条件下的适应度函数的权重和作为SMO的适应度函数。权重系数是影响优化质量的重要参数,但是其设置通常需要大量模拟实验,导致SMO总时间成本增加。本文提出了一种基于动态适应度函数的鲁棒的SMO方法。该方法的适应度函数由静态适应度函数(工艺条件为理想值)和动态适应
会议录	第十五届全国光学测试学术交流会论文摘要集
语种	中文
内容类型	会议论文
源URL	[http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/17239]
专题	上海光学精密机械研究所_信息光学与光电技术实验室
作者单位	1.中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室 2.中国科学院大学
推荐引用方式 GB/T 7714	杨朝兴,李思坤,王向朝. 基于动态适应度函数的光刻机光源掩模优化方法[C]. 见:.