红移高功率大失谐驻波光场原子光刻

CORC > 上海光学精密机械研究所 > 中国科学院上海光学精密机械研究所 > 量子光学重点实验室

	红移高功率大失谐驻波光场原子光刻
	曾庆林 ; 霍芸生 ; 蔡惟泉 ; 王育竹
刊名	光学学报
	2001
卷号	21 期号:8 页码:918
中文摘要	研究了红移大失谐驻波光场在高功率的情况下对原子束的聚焦特性 ,数值结果显示在激光功率较高的情况下 ,有实现原子光刻的可能。在单线功率输出为P =7W ,光斑尺寸为w0 =0 .1mm的Ar+ 离子激光束的条件下 ,Cr原子束在置于焦平面处的基板上所沉积的条纹半高宽度为 2 0nm左右 ,对比度为 4～ 5。提出了用增强腔来提高条纹对比度和减小色差的办法。在势阱深度增强 2 5 0 0倍时 ,沉积的条纹半高宽度为 5nm～ 10nm ,对比度约为 7,条纹有了明显的改善
收录类别	EI
语种	中文
内容类型	期刊论文
版本	出版稿
源URL	[http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/17395]
专题	上海光学精密机械研究所_量子光学重点实验室
作者单位	1.曾庆林, 中科院上海光学精密机械所, 量子光学开放实验室, 上海 201800, 中国. 2.霍芸生, 中科院上海光学精密机械所, 量子光学开放实验室, 上海 201800, 中国. 3.蔡惟泉, 中科院上海光学精密机械所, 量子光学开放实验室, 上海 201800, 中国. 4.王育竹, 中科院上海光学精密机械所, 量子光学开放实验室, 上海 201800, 中国.
推荐引用方式 GB/T 7714	曾庆林,霍芸生,蔡惟泉,等. 红移高功率大失谐驻波光场原子光刻[J]. 光学学报,2001,21(8):918.
APA	曾庆林,霍芸生,蔡惟泉,&王育竹.(2001).红移高功率大失谐驻波光场原子光刻.光学学报,21(8),918.
MLA	曾庆林,et al."红移高功率大失谐驻波光场原子光刻".光学学报 21.8(2001):918.