微孔材料理论模拟的进展与展望

	微孔材料理论模拟的进展与展望
	孙磊; 邓伟侨
刊名	ACTA CHIMICA SINICA化学学报
	2015-12-23
卷号	73 期号:0 页码:579
通讯作者	邓伟侨
产权排序	1
语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://cas-ir.dicp.ac.cn/handle/321008/148052]
专题	大连化学物理研究所_中国科学院大连化学物理研究所
作者单位	大连化学物理研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	孙磊,邓伟侨. 微孔材料理论模拟的进展与展望[J]. ACTA CHIMICA SINICA化学学报,2015,73(0):579.
APA	孙磊,&邓伟侨.(2015).微孔材料理论模拟的进展与展望.ACTA CHIMICA SINICA化学学报,73(0),579.
MLA	孙磊,et al."微孔材料理论模拟的进展与展望".ACTA CHIMICA SINICA化学学报 73.0(2015):579.