同轴两反式高NA投影光刻物镜热像差补偿方法研究

	同轴两反式高NA投影光刻物镜热像差补偿方法研究
	徐象如; 黄玮; 贾树强; 徐明飞
刊名	光学学报
	2015-10-10
期号	10 页码:111-118
关键词	成像系统投影光刻物镜热像差元件位移分区加热
中文摘要	热像差是导致光刻物镜工作状态下像质劣化的主要原因之一。针对同轴两反式高数值孔径(NA)投影光刻物镜的结构特点,提出了将元件位移法和元件分区加热法相结合,共同补偿热像差的方案。元件位移法通过改变元件的间隔、偏心或倾斜量来调节像质;元件分区加热法利用光学材料折射率随温度变化的特点,通过控制元件的温度分布产生可控波前。采用上述补偿方案对偶极照明模式下的热像差进行补偿,波像差从129.78 nm减小至1.69 nm,畸变从12.24 nm减小至1.31 nm,将物镜像质补偿至接近设计水平。
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/54114]
专题	长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式 GB/T 7714	徐象如,黄玮,贾树强,等. 同轴两反式高NA投影光刻物镜热像差补偿方法研究[J]. 光学学报,2015(10):111-118.
APA	徐象如,黄玮,贾树强,&徐明飞.(2015).同轴两反式高NA投影光刻物镜热像差补偿方法研究.光学学报(10),111-118.
MLA	徐象如,et al."同轴两反式高NA投影光刻物镜热像差补偿方法研究".光学学报 .10(2015):111-118.