光刻机照明系统专利分析

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	光刻机照明系统专利分析
	张海波; 林妩媚; 廖志杰; 白瑜; 冯建美; 邢廷文
刊名	电子工业专用设备
	2014
卷号	43 期号:8 页码:1-7+19
关键词	光刻机照明系统专利分析专利统计
通讯作者	张海波
中文摘要	为了解光刻机照明系统的技术发展方向和技术研究热点及技术成熟度,并为科研人员提供技术参考,对光刻机照明系统技术专利文献进行了检索,并对专利文献数据进行了统计分析,分别从专利权人分布、国际专利分类号分布、专利申请国分布和年度发展趋势及技术生命周期等几个方面进行统计分析,揭示了国内外光刻机照明系统专利申请的主要专利权人依次为阿斯麦、尼康、佳能和蔡司,专利文件分布的主要技术领域为半导体器件和其部件的制造处理等方面,专利文件的年度申请在2004年出现最高峰,之后开始下降,并结合技术生命周期曲线图,指出光刻机照明系统技术已经历了从萌芽、发展、成熟阶段。同时进行了重要专利文件的挖掘,分析了技术研究热点,追踪...
语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/4262]
专题	光电技术研究所_应用光学研究室（二室）
作者单位	中国科学院光电技术研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	张海波,林妩媚,廖志杰,等. 光刻机照明系统专利分析[J]. 电子工业专用设备,2014,43(8):1-7+19.
APA	张海波,林妩媚,廖志杰,白瑜,冯建美,&邢廷文.(2014).光刻机照明系统专利分析.电子工业专用设备,43(8),1-7+19.
MLA	张海波,et al."光刻机照明系统专利分析".电子工业专用设备 43.8(2014):1-7+19.