采用一次曝光制备连续面形螺旋相位板的方法

	采用一次曝光制备连续面形螺旋相位板的方法
	史立芳,曹阿秀,郭书基
刊名	光学学报
	2015
卷号	35 期号:s1 页码:314-319
关键词	光学制造光学漩涡光刻微光学元件
通讯作者	史立芳
中文摘要	提供了一种制备连续面形螺旋位相板(SPP)的方法。通过将三维目标面形在一维方向上按照一定的间隔进行抽样处理，进而将获得的样条按照比例平铺在抽样空间内，获得与目标面形对应的二维掩模结构图形；利用该掩模结构在抽样方向上进行一次曝光即可获得目标面形。对该抽样方法、结构参数进行了分析，并且针对该方法开展了制备技术研究，制备出了4种电荷数分别为1,3,10和20的螺旋相位片，其适用波长为532 nm，并对其光学效果进行了测试。
语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/7358]
专题	光电技术研究所_微电子装备总体研究室（四室）
作者单位	中国科学院光电技术研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	史立芳,曹阿秀,郭书基. 采用一次曝光制备连续面形螺旋相位板的方法[J]. 光学学报,2015,35(s1):314-319.
APA	史立芳,曹阿秀,郭书基.(2015).采用一次曝光制备连续面形螺旋相位板的方法.光学学报,35(s1),314-319.
MLA	史立芳,曹阿秀,郭书基."采用一次曝光制备连续面形螺旋相位板的方法".光学学报 35.s1(2015):314-319.