基于等效叠栅的反射式光刻对准模型研究

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	基于等效叠栅的反射式光刻对准模型研究
	朱江平 ; 胡松 ; 于军胜 ; 唐燕 ; 周绍林 ; 刘旗 ; 何渝
刊名	中国激光
	2012
卷号	39 期号:9 页码:168-172
关键词	光栅光刻对准反射式光路叠栅条纹光栅标记
通讯作者	朱江平
中文摘要	针对接近接触式光刻技术的特点,提出了一种实用的反射式光刻对准方案。方案采用差动叠栅条纹对准技术,以叠栅条纹相位作为对准信号的载体。在掩模和硅片上分别设计两组位置相反、周期接近的光栅对准标记。电荷耦合器件(CCD)成像系统接收叠栅条纹图像,采用傅里叶变换提取叠栅条纹相位,得到掩模与硅片的相对位置关系。设计的标记可同时探测横纵方向的对准偏差。给出了合理的光路设计方案,详细分析了整个系统对准的内在机制,建立了可行的数学模型。研究表明,当对准偏差小于1pixel时,最大误差低于0.002pixel。与透射式光路对比,该方案更具有实用性,满足实际对准的要求。
收录类别	Ei
语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/7253]
专题	光电技术研究所_微电子装备总体研究室（四室）
作者单位	1.中国科学院光电技术研究所 2.电子科技大学光电信息学院 3.中国科学院研究生院 4.华南理工大学电子与信息学院
推荐引用方式 GB/T 7714	朱江平,胡松,于军胜,等. 基于等效叠栅的反射式光刻对准模型研究[J]. 中国激光,2012,39(9):168-172.
APA	朱江平.,胡松.,于军胜.,唐燕.,周绍林.,...&何渝.(2012).基于等效叠栅的反射式光刻对准模型研究.中国激光,39(9),168-172.
MLA	朱江平,et al."基于等效叠栅的反射式光刻对准模型研究".中国激光 39.9(2012):168-172.