离子束辅助沉积大口径光学薄膜

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	离子束辅助沉积大口径光学薄膜
	艾万君; 熊胜明
刊名	红外与激光工程
	2015
卷号	43 期号:S1 页码:183-188
关键词	离子辅助沉积高真空镀膜设备大口径光学薄膜光学特性膜厚均匀性
通讯作者	艾万君
中文摘要	利用国内最大箱式高真空镀膜设备ZZS3600,开展了双离子束辅助反应蒸发技术及光学薄膜厚度均匀性研究。借助MarkⅡ离子源辅助反应蒸发技术,对Ta_2O_5、SiO_2常见的高、低折射率光学薄膜进行了制备与特性分析。结果表明:在蒸发源与沉积基底距离较大的镀膜环境下,具有低能、高束流密度离子源有利于薄膜结构的致密化,薄膜性能的改善。根据大口径光学元件尺寸,结合真空室空间几何配置,开展了行星及单轴转动方式下镀膜膜厚均匀性的研究。行星转动方式下,分析了直径140 cm行星盘工件膜厚均匀性,无修正挡板运行时膜厚不均匀性优于0.4%。单轴转动方式下,分析了200 cm光学元件膜厚均匀性,并通过设计修正挡...
收录类别	Ei
语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/6647]
专题	光电技术研究所_薄膜光学技术研究室（十一室）
作者单位	中国科学院光电技术研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	艾万君,熊胜明. 离子束辅助沉积大口径光学薄膜[J]. 红外与激光工程,2015,43(S1):183-188.
APA	艾万君,&熊胜明.(2015).离子束辅助沉积大口径光学薄膜.红外与激光工程,43(S1),183-188.
MLA	艾万君,et al."离子束辅助沉积大口径光学薄膜".红外与激光工程 43.S1(2015):183-188.