重复频率脉冲激光辐照下光学薄膜元件温升的有限元分析

	重复频率脉冲激光辐照下光学薄膜元件温升的有限元分析
	代福; 熊胜明; 龚自正; Da iFu; Xiong Shengming; Gong Zizheng
刊名	航天器环境工程
	2009
卷号	26 期号:6 页码:510-513
通讯作者	代福
中文摘要	文章采用有限元ANSYS程序分析了在重复频率脉冲激光辐照下光学薄膜元件表面的温度变化.结果表明激光脉宽相同时,重复频率越高,相同辐照时间薄膜元件表面温度累积就越大;占空比一样时,脉宽越大,相同辐照时间元件温升越高
语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/6569]
专题	光电技术研究所_薄膜光学技术研究室（十一室）
作者单位	中国科学院光电技术研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	代福,熊胜明,龚自正,等. 重复频率脉冲激光辐照下光学薄膜元件温升的有限元分析[J]. 航天器环境工程,2009,26(6):510-513.
APA	代福,熊胜明,龚自正,Da iFu,Xiong Shengming,&Gong Zizheng.(2009).重复频率脉冲激光辐照下光学薄膜元件温升的有限元分析.航天器环境工程,26(6),510-513.
MLA	代福,et al."重复频率脉冲激光辐照下光学薄膜元件温升的有限元分析".航天器环境工程 26.6(2009):510-513.