基于腐蚀的水平全限制相变存储器的自对准制备方法
周亚玲 ; 付英春 ; 王晓峰 ; 王晓东 ; 杨富华
专利国别中国
专利类型发明
权利人中国科学院半导体所
学科主题微电子学
公开日期2016-09-22
申请日期2015-07-15
专利申请号CN201510416091.1
内容类型专利
源URL[http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/27496]  
专题半导体研究所_半导体集成技术工程研究中心
推荐引用方式
GB/T 7714
周亚玲,付英春,王晓峰,等. 基于腐蚀的水平全限制相变存储器的自对准制备方法.
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