Si基太阳电池用SiNx:H薄膜的研究进展

	Si基太阳电池用SiNx:H薄膜的研究进展
	周春兰
刊名	材料导报
	2008
通讯作者	周春兰
中文摘要	SiNx:H薄膜因为具有良好的减反射性质和钝化作用，在晶体硅太阳电池（单晶硅、多晶硅）的研究和生产中得到越来越广泛的应用。本文介绍了SiNx:H薄膜在硅基太阳电池中的减反射和钝化作用，主要制备方法等研究现状，以及面临的问题和今后的研究趋势。
学科主题	半导体物理学
收录类别	9
公开日期	2010-09-29
附注	SiNx:H薄膜因为具有良好的减反射性质和钝化作用，在晶体硅太阳电池（单晶硅、多晶硅）的研究和生产中得到越来越广泛的应用。本文介绍了SiNx:H薄膜在硅基太阳电池中的减反射和钝化作用，主要制备方法等研究现状，以及面临的问题和今后的研究趋势。
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.iee.ac.cn/handle/311042/1664]
专题	电工研究所_太阳能电池技术研究组_太阳能电池技术研究组_期刊论文
推荐引用方式 GB/T 7714	周春兰. Si基太阳电池用SiNx:H薄膜的研究进展[J]. 材料导报,2008.
APA	周春兰.(2008).Si基太阳电池用SiNx:H薄膜的研究进展.材料导报.
MLA	周春兰."Si基太阳电池用SiNx:H薄膜的研究进展".材料导报 (2008).