基于扫描电镜的电子束曝光机对准系统的研制

	基于扫描电镜的电子束曝光机对准系统的研制; Development of Alignment System of Electron Beam Lithography Based on SEM
	方光荣
刊名	微细加工技术
	2010
其他题名	Development of Alignment System of Electron Beam Lithography Based on SEM
通讯作者	方光荣
学科主题	信息与系统科学相关工程与技术
收录类别	4
公开日期	2010-09-29
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.iee.ac.cn/handle/311042/1117]
专题	电工研究所_电子束曝光技术研究组_电子束曝光技术研究组_期刊论文
推荐引用方式 GB/T 7714	方光荣. 基于扫描电镜的电子束曝光机对准系统的研制, Development of Alignment System of Electron Beam Lithography Based on SEM[J]. 微细加工技术,2010.
APA	方光荣.(2010).基于扫描电镜的电子束曝光机对准系统的研制.微细加工技术.
MLA	方光荣."基于扫描电镜的电子束曝光机对准系统的研制".微细加工技术 (2010).