高温超导磁控溅射装置的探讨

	高温超导磁控溅射装置的探讨
	邱清泉
刊名	低温物理学报
	2009
通讯作者	邱清泉
中文摘要	超导磁控溅射装置放电空间的磁场比传统磁控溅射装置高一个数量级以上，因此可以在很低的气压和很长的靶基板间距下制备高质量薄膜。本文对超导磁控溅射装置的结构设计、电磁设计、放电特性仿真和镀膜应用等问题进行了讨论，并提出一种采用跑道线圈的高温超导矩形平面磁控溅射装置，通过对磁体磁场的初步计算发现，该装置可以在靶材表面产生超过0.4T的磁场，能够满足高磁场磁控溅射的磁场需求。
学科主题	超导电工技术
收录类别	9
公开日期	2010-09-29
附注	超导磁控溅射装置放电空间的磁场比传统磁控溅射装置高一个数量级以上，因此可以在很低的气压和很长的靶基板间距下制备高质量薄膜。本文对超导磁控溅射装置的结构设计、电磁设计、放电特性仿真和镀膜应用等问题进行了讨论，并提出一种采用跑道线圈的高温超导矩形平面磁控溅射装置，通过对磁体磁场的初步计算发现，该装置可以在靶材表面产生超过0.4T的磁场，能够满足高磁场磁控溅射的磁场需求。
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.iee.ac.cn/handle/311042/737]
专题	电工研究所_超导电力科学技术研究发展中心_超导电力科学技术研究发展中心_期刊论文
推荐引用方式 GB/T 7714	邱清泉. 高温超导磁控溅射装置的探讨[J]. 低温物理学报,2009.
APA	邱清泉.(2009).高温超导磁控溅射装置的探讨.低温物理学报.
MLA	邱清泉."高温超导磁控溅射装置的探讨".低温物理学报 (2009).