INTERFACIAL STRUCTURE OF NANOCRYSTALLINE FE73.5CU1NB3SI13.5B9 STUDIED BY POSITRON-ANNIHILATION | |
LIU, T; ZHAO, ZT; XU, ZX; MA, RZ; GUO, YH; CAO, HM; WANG, YY; Guo YH(郭应焕); Cao HM(曹惠民); Wang YY(王蕴玉) | |
刊名 | JOURNAL OF APPLIED PHYSICS |
1995 | |
卷号 | 77期号:12页码:6214-6216 |
通讯作者 | ACAD SINICA,INST HIGH ENERGY PHYS,BEIJING 100080,PEOPLES R CHINA |
学科主题 | Physics |
类目[WOS] | Physics, Applied |
研究领域[WOS] | Physics |
原文出处 | SCI |
语种 | 英语 |
WOS记录号 | WOS:A1995RD57200018 |
内容类型 | 期刊论文 |
源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/240067] |
专题 | 高能物理研究所_多学科研究中心 中国科学院高能物理研究所_中国散裂中子源 |
作者单位 | 中国科学院高能物理研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | LIU, T,ZHAO, ZT,XU, ZX,et al. INTERFACIAL STRUCTURE OF NANOCRYSTALLINE FE73.5CU1NB3SI13.5B9 STUDIED BY POSITRON-ANNIHILATION[J]. JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,1995,77(12):6214-6216. |
APA | LIU, T.,ZHAO, ZT.,XU, ZX.,MA, RZ.,GUO, YH.,...&王蕴玉.(1995).INTERFACIAL STRUCTURE OF NANOCRYSTALLINE FE73.5CU1NB3SI13.5B9 STUDIED BY POSITRON-ANNIHILATION.JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,77(12),6214-6216. |
MLA | LIU, T,et al."INTERFACIAL STRUCTURE OF NANOCRYSTALLINE FE73.5CU1NB3SI13.5B9 STUDIED BY POSITRON-ANNIHILATION".JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 77.12(1995):6214-6216. |
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