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题名微波等离子体基本特性及其在CVD法沉积金刚石簿膜中的应用研究
作者俞辉
学位类别硕士
答辩日期1987
授予单位中国科学院电子学研究所
授予地点中国科学院电子学研究所
导师柯锦松
学位专业微波等离子体
中文摘要本文利用两种工作于2.45GHz的微波放电腔,在输入功率0-1.5kw、气压范围为0.1~200 Torr内,测量了Ar、O_2、Air、H_2等气体等离子体对微波功率的吸收,并用双探针法测量了其中的电子温度和浓度,从理论上分析了实验结果,并近似计算了电子浓度随气压、功率的变化。结果表明,吸收效率在很宽的气压、功率范围可达95%以上,电子温度在10~(10)-10~(12) cm~(-3)之间变化。另外利用微波等离子体化学气相沉积法,用H_2稀释的CH_4进行了沉积金刚石膜的实验,通过SEM和RHEED的分析结果表明:在气压为20-40 Toor,流量为30-60 SCCM, CH _4混合比为0.5-1 Vol%、输入功率为300-500 W 范围内为形成金刚石膜的最佳条件,并给出在其它条件下的结果。
语种中文
公开日期2011-07-19
页码72
内容类型学位论文
源URL[http://ir.ie.ac.cn/handle/80137/9241]  
专题电子学研究所_电子所博硕士学位论文_电子所博硕士学位论文_学位论文
推荐引用方式
GB/T 7714
俞辉. 微波等离子体基本特性及其在CVD法沉积金刚石簿膜中的应用研究[D]. 中国科学院电子学研究所. 中国科学院电子学研究所. 1987.
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