题名 | 微波等离子体基本特性及其在CVD法沉积金刚石簿膜中的应用研究 |
作者 | 俞辉 |
学位类别 | 硕士 |
答辩日期 | 1987 |
授予单位 | 中国科学院电子学研究所 |
授予地点 | 中国科学院电子学研究所 |
导师 | 柯锦松 |
学位专业 | 微波等离子体 |
中文摘要 | 本文利用两种工作于2.45GHz的微波放电腔,在输入功率0-1.5kw、气压范围为0.1~200 Torr内,测量了Ar、O_2、Air、H_2等气体等离子体对微波功率的吸收,并用双探针法测量了其中的电子温度和浓度,从理论上分析了实验结果,并近似计算了电子浓度随气压、功率的变化。结果表明,吸收效率在很宽的气压、功率范围可达95%以上,电子温度在10~(10)-10~(12) cm~(-3)之间变化。另外利用微波等离子体化学气相沉积法,用H_2稀释的CH_4进行了沉积金刚石膜的实验,通过SEM和RHEED的分析结果表明:在气压为20-40 Toor,流量为30-60 SCCM, CH _4混合比为0.5-1 Vol%、输入功率为300-500 W 范围内为形成金刚石膜的最佳条件,并给出在其它条件下的结果。 |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2011-07-19 |
页码 | 72 |
内容类型 | 学位论文 |
源URL | [http://ir.ie.ac.cn/handle/80137/9241] ![]() |
专题 | 电子学研究所_电子所博硕士学位论文_电子所博硕士学位论文_学位论文 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 俞辉. 微波等离子体基本特性及其在CVD法沉积金刚石簿膜中的应用研究[D]. 中国科学院电子学研究所. 中国科学院电子学研究所. 1987. |
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