欠氧化气氛下等离子体辅助脉冲直流磁控溅射高纯度Al2O3薄膜

	欠氧化气氛下等离子体辅助脉冲直流磁控溅射高纯度Al2O3薄膜
	李刚; 吕起鹏; 公发权; 王锋; 孙龙; 金玉奇
刊名	真空科学与技术学报
	2014-12-23
卷号	34 期号:3 页码:261
通讯作者	李刚
学科主题	物理化学
公开日期	2016-05-09
内容类型	期刊论文
源URL	[http://cas-ir.dicp.ac.cn/handle/321008/143998]
专题	大连化学物理研究所_中国科学院大连化学物理研究所
作者单位	大连化学物理研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	李刚,吕起鹏,公发权,等. 欠氧化气氛下等离子体辅助脉冲直流磁控溅射高纯度Al2O3薄膜[J]. 真空科学与技术学报,2014,34(3):261.
APA	李刚,吕起鹏,公发权,王锋,孙龙,&金玉奇.(2014).欠氧化气氛下等离子体辅助脉冲直流磁控溅射高纯度Al2O3薄膜.真空科学与技术学报,34(3),261.
MLA	李刚,et al."欠氧化气氛下等离子体辅助脉冲直流磁控溅射高纯度Al2O3薄膜".真空科学与技术学报 34.3(2014):261.